科研实验专用氧化铽靶材Tb2O3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

氧化铽（Tb2O3）外观为黑褐色粉末，不溶于水，溶于酸。用于制作金属铽、磁光玻璃、荧光粉、磁光贮存、化工添加剂 等。

产品参数

中文名称：氧化铽

中文别名：七氧化四铽

英文名称：Terbium oxide

CAS号：12037-01-3

分子式：Tb4O7

分子量：747.69700

质量：747.66600

纯度 99.99%

PSA：95.97000

[ 密度 ]: 7.3 g/mL at 25 °C(lit.)

[ 熔点 ]: 2340°C

[ PSA ]: 95.97000

[ 外观性状 ]: 无气味的暗棕色-黑色粉末

[ 储存条件 ]:

常温密闭，阴凉通风干燥

[ 稳定性 ]:

常温常压下稳定避免湿 酸 氧化物.不溶于水，溶于热浓酸。

支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！

服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！

产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。

加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！

我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。

注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！

建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。